【财华社讯】5月6日，久日新材(688199.SH)在互动平台表示，公司有两款光刻胶产品可以应用于光刻机掩模版的制备，目前在客户端验证中。
【财华社讯】3月26日，久日新材(688199.SH)在互动平台表示，近目前光敏剂和光刻胶均已累计形成吨级订单。近期公司部分主要光引发剂产品的价格有所回升。
【财华社讯】2月11日，在互动平台有投资者向久日新材(688199.SH)提问， 请问公司产品是否能进入到华为芯片产业链？公司回答表示，公司半导体光刻胶及其相关产品，一直跟该芯片产业链的相关企业互动，有相关产品在试用，目前尚未批量进入到该芯片产业链。
【财华社讯】2月10日，久日新材(688199.SH)在互动平台表示，公司暂未布局KrF和ArF光刻胶产品。
【财华社讯】10月31日，康达新材(002669.SZ)在互动平台表示，公司控股子公司彩晶光电已掌握 TFT 液晶面板正性光刻胶核心原材料光引发剂(PAC)及半导体集成电路光 刻胶光引发剂(PAG)的生产技术及工艺。 为了进一步推动光刻胶感光剂技术的发展和应用，公司拟投资建设 “半导体光刻胶核心材料光引发剂技术研究和产业化项目”，深入开展产品中试和量产工艺技术研究，致力于形成光引发剂的产业化生产能力。彩晶光电相关项目的中试设备安装已进入尾声。
【财华社讯】10月29日，国林科技(300786.SZ)在互动平台表示，公司电子级超纯臭氧气体发生器可产生高浓度、大流量、高压力的超洁净臭氧，臭氧在电子工业领域可被广泛用于形成CVD和ALD薄膜、氧化物生长、光刻胶去除和多种清洁应用；公司暂未涉及光刻机业务。
【财华社讯】9月30日，盛剑科技(603324.SH)在互动平台表示，公司电子化学品材料业务不包括光刻胶产品，所涉及的剥离液属于光刻胶配套的清洗试剂。今年3月，公司与日本长濑签署新的合作协议，新增先进封装RDL光刻胶剥离液技术使用许可。目前电子化学品材料业务占公司总收入比例较小，敬请投资者注意投资风险。
7月16日，久日新材(688199.SH)在互动平台表示，大晶新材4500吨/年光刻胶生产线预计今年8月份建成，建成后会尽快组织生产，并全力加速推动光刻胶验证工作。
5月30日，国林科技(300786.SZ)在互动平台表示，公司电子级超纯臭氧气体发生器可产生高浓度、大流量、高压力的超洁净臭氧，臭氧在电子工业领域可被广泛用于形成CVD和ALD薄膜、氧化物生长、光刻胶去除和多种清洁应用；公司暂未涉及光刻机业务。
10月8日，海科新源(301292.SZ)在互动平台表示，公司目前没有光刻胶领域的相关客户。公司的主要产品有碳酸酯系列锂离子电池电解液溶剂和高端丙二醇等精细化学品，可广泛应用于锂离子电池电解液、医药、化妆品、香精香料、烟草等行业。
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