【财华社讯】2月10日，久日新材(688199.SH)在互动平台表示，公司暂未布局KrF和ArF光刻胶产品。
3月24日，南大光电(300346.SZ)在互动平台表示，公司正在抓紧ArF光刻胶产品的验证工作。
3月21日，南大光电(300346.SZ)在互动平台表示，公司ArF光刻胶目前主要集中在90nm-28nm制程工艺的验证，产品质检主要依靠公司购置的光刻机及其他辅助检测设备。
光刻胶是半导体制造的重要关键材料，ArF(193nm)光刻胶更是这个领域的先进材料之一，可以用于90nm-14nm甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺，广泛应用于高端芯片制造。尤其是，随着先进制程的发展，ArF光刻胶已成为先进晶圆厂用量最大的光刻胶之一。作为芯片光刻过程的关键耗材，半导体光刻胶供不应求、完全靠抢的现状近来备受热议。今年2月，受地震影响日本信越化学KrF光刻胶供应受到影响，供给问
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